武汉科技大学材料与冶金学院导师：祝柏林

发布时间：2021-11-20 编辑：考研派小莉推荐访问：

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武汉科技大学材料与冶金学院导师：祝柏林正文

[导师姓名]
祝柏林

[所属院校]
武汉科技大学

[基本信息]
导师姓名：祝柏林
性别：男
人气指数：538
所属院校：武汉科技大学
所属院系：材料与冶金学院
职称：教授
导师类型：硕导
招生专业：材料科学与工程

[通讯方式]
电子邮件：blzhu@wust.edu.cn

[个人简述]
1994-1998年就读洛阳工学院（现河南科技大学），获金属材料及热处理专业学士学位；1998-2003，就读华中科技大学，获材料学专业博士学位；2003-2005年，入武汉大学物理科学与技术学院，从事博士后研究工作；2005年底，入武汉科技大学，先后任副教授和教授，其中2006-2008年前往香港理工大学开展合作研究。到目前为止，主持和主要参与完成了包括国家自然科学基金、中国博士后科学基金、香港研究资助局（RGC）、国家重点实验室、省科技厅等资助科研项目10项。主持并参与完成了横向课题3项。共发表了SCI收录的论文50余篇，H指数21。《Thin Solid Films》、《Composites Part B》、《Applied Surface Science》《Journal of Physics D》、《无机材料学报》、《材料导报》等杂志审稿人。国家自然科学基金、武汉市科技局、广州市科技局项目评审人。目前主要从事光电功能薄膜材料及有机-无机复合材料的研究，同时从事《晶体学基础》、《薄膜材料》、《材料物理性能》、《电子材料》、《功能材料》、《复合材料》等课程的教学工作。

[科研工作]
近五年发表的论文：[24] 谢挺,祝柏林*,杨玉婷,张俊峰,龙晓阳,吴隽, 反应溅射法制备高透明导电ZnO薄膜的研究, 人工晶体学报，2016，45(3):711-717[23]J. Wu*, T. T. Li, T. Qi, B. L. Zhu, W. J. Wang, D. Wei, C. S. Xie, The microstructure, stoichiometric ratio and room temperature ferromagnetic properties of V-doped ZnO films deposited at different substrate temperatures, J Mater Sci: Mater Electron, 2016，27（1）：163-170[22] 龚甜,吴隽,李涛涛 ,龙晓阳,祝柏林,祁婷, 负偏压对六方氮化硼薄膜沉积特性的影响, 武汉科技大学学报,2015,38(5):351-356[21]B. L. Zhu*, J. Wang, H. Zheng, J. Ma, J. Wu, R. Wu，Investigation of thermal conductivity and dielectric properties of LDPE-matrix composites filled with hybrid filler of hollow glass microspheres and nitride particles，Composites Part B: Engineering, 2015, 69: 496-506[20] B. L. Zhu*, M. Xie, J. Wang, X. W. Shi, J. Wu, D. W. Zeng, C. S. Xie, Comparative study on effects of H2 flux on structure and properties of Al-doped ZnO films by RF sputtering in Ar+H2 ambient at two substrate temperatures, Ceramics International, 2014, 40(8): 12093-12104[19] B. L. 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[教育背景]
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